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光学掩模版
updated: 2026-07-16 04:34:51
释义
「光学掩模版」是什么意思?
| 词语 | 光学掩模版 |
|---|---|
| 拼音 | guāng xué yǎn mó bǎn |
| 拼音字母 | guang xue yan mo ban |
| 拼音首字母 | gxymb |
| 注音 | ㄍㄨㄤ ㄒㄩㄝˊ ㄧㄢˇ ㄇㄛˊ ㄅㄢˇ |
| 注音符号 | ㄍㄨㄤ ㄒㄩㄝ ㄧㄢ ㄇㄛ ㄅㄢ |
扩展释义
光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。
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